エレクトロニクス : 半導體?FPD用ケミカル

ソルファイン®電子デバイス用リンス溶剤
電子デバイス用リンス溶剤
レジスト剝離後のリンスや、ワックスの洗浄に優れた混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
γ-ブチロラクトン
GBL
レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄に利用されます。
代表製品名英語
γ-butyrolactone
用途
レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®電子デバイス用クリーナー溶剤
電子デバイス用クリーナー溶剤
ワックスや樹脂の溶解力に優れた、炭化水素やグリコールエーテル等の混合溶剤です。電子デバイスの洗浄に使用されます。
代表製品名英語
solfine
用途
ワックスや樹脂の洗浄
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®液晶用
電子ディスプレイ製造工程用洗浄剤
レジストの洗浄やリンス性能に優れた単一/混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
レジストの洗浄やリンス
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®剝離剤
剝離剤
半導體フォトリソ工程でのドライエッチング時に発生するレジスト変質膜(サイドウォールポリマー、デポ、殘渣)を除去するための剝離液です。エッチング裝置部品の洗浄にもご使用いただけます。
代表製品名英語
solfine
用途
レジスト変質膜の剝離、半導體製造裝置の洗浄
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®レンズ洗浄剤
レンズ洗浄剤
研磨材や、ピッチ?保護膜の洗浄に利用されます。汚れ成分に対する優れた洗浄性を有しています。界面活性剤等の殘渣となるものを添加しておらず、蒸留再生も可能です。
代表製品名英語
solfine
用途
レンズの洗浄
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®プリント基板用
プリント基板用洗浄剤
フラックス洗浄に適した炭化水素系/グリコールエーテル系の混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
プリント基板の洗浄
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®フォトレジスト用
フォトレジスト用溶剤
半導體やFPD製造時のフォトリソグラフィー工程で使用される、レジストの溶解力やリンス性に優れた有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
フォトレジスト用溶媒
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
PGMEA
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
レジスト溶媒、半導體フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
propyleneglycol monomethyl ether acetate
用途
レジスト溶媒、半導體フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®-SE-TW10/A
液晶?半導體の洗浄用高純度溶剤です。本製品を過酸化水素水に添加することで、Ti、W、TiW、TiNの長壽命なエッチングが実現します。
代表製品名英語
Solfine-SE-TW10/A
用途
Ti, W, TiW ,TiNのエッチング
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
PGME
プロピレングリコールモノメチルエーテル
レジスト溶媒、半導體フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
propyleneglycol monomethyl ether
用途
レジスト溶媒、半導體フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
N-メチル-2-ピロリドン
NMP
レジスト?剝離液?ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
N-methyl-2-pyrrolidone
用途
レジスト?剝離液?ポリイミド関連製品の溶媒など
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
工業用TMAH
テトラメチルアンモニウム=ヒドロキシド
電子工業向け高純度薬品(ポジ型フォトレジスト用現像液)のTMAHを幅広い用途に展開するため、工業用グレードを開発しました。使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供します。原料中に含まれるレジスト成分を選択的に除去するため、物性は電子工業用TMAHと変わりません。
代表製品名英語
Tetramethylammonium hydroxide
用途
洗浄液、觸媒、吸収剤、pH調整剤
お問い合わせ
特殊化學品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
乳酸エチル
レジストや電子材料向けフィルムの溶媒等にご使用いただけます。
代表製品名英語
ethyl lactate
用途
レジストや電子材料向けフィルムの溶媒など
お問い合わせ
情報電子化學品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
  • 1ページ

製品検索